6月2日下午，德国波鸿鲁尔大学董婉博士受邀来我校电子与信息工程学院作“面向大规模集成电路制造中的等离子体刻蚀/沉积相关数值模拟结果介绍”的学术讲座。杨杰副教授主持报告，学院师生及企业代表参会。

在报告中，董婉博士从“等离子体刻蚀模型”与“等离子体沉积模型”两方面，详细介绍了刻蚀模块中的原子层刻蚀、离子能量分布调控、均匀性调控，以及沉积模块中的等离子体增强非晶硅薄膜沉积等重点，并对等离子体表面质量受控因素及现有仿真能力进行总结。与会师生认真聆听，就数值模拟方法与钙钛矿、新型超宽禁带半导体材料的刻蚀与沉积等研究领域的结合与创新进行了深入交流；参会企业代表也就数值模拟方法对生产实际问题的指导价值开展了详细讨论，纷纷表示深受启发、收获颇丰。

董婉博士，山东济宁人，毕业于大连理工大学王友年教授课题组，之后分别在大连理工大学和德国波鸿鲁尔大学做博士后。以第一作者在Plasma Sources Sci. Technol和Acta Phys. Sin上发表多篇学术论文。博士后期间主持国家自然科学基金项目1项、企事业合作项目多项。研究方向涉及电负性反应气体放电不稳定性的物理机理研究、电负性反应气体放电机理的模拟研究以及面向芯片制造的低温等离子体刻蚀/沉积相关数值仿真研究等。

（审稿：电子与信息工程学院 牛萍娟 编辑：党委宣传部 胡敏）